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第611章 圖窮匕見

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沒有人能想到,光刻工廠居然引起了這麼大的反應。

但是,當這件事情真的發生了之後,就沒有人還能控制得住了。

風車國的阿斯麥也罕見地站了出來,對於光刻工廠方案進行評價。

作為目前光刻裝置領域的龍頭企業。

更是佔據市場主流的巨無霸。

阿斯麥毫無疑問是這個領域的權威。

所以阿斯麥說出來的內容,自然就帶有極強的權威性。

“尊敬的業界同仁和合作夥伴:近期,我們注意到某些市場傳聞稱,某些企業正試圖透過所謂的‘光刻工廠’方案,即利用大型同步輻射光源設施替代傳統EUV光刻機,來‘繞開’全球半導體產業的技術壁壘,作為全球光刻技術的領導者,ASML有必要從技術規律與產業現實出發,對此類設想提出專業質疑。”

“一、技術可行性:物理定律的邊界不可逾約……”

“光源本質差異,同步輻射光源的物理特性與EUV光刻所需的13.5nm高功率、高穩定性鐳射等離子體光源存在根本性矛盾……”

“系統整合災難,光刻機是10萬級精密零件的系統整合藝術,而“光刻工廠”試圖將光源、光學系統、掩模臺、晶圓臺等模組分散於百米級設施中,震動、溫度、塵埃控制等基礎工程問題足以摧毀任何奈米級的精度要求……”

“二、商業邏輯:背離產業規律的空想。”

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