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“光源嗎……”王向中聞言，也是陷入了思索當中。

的確是如林堅博士說的那般，照明系統，也就是光源，才是真正制約光刻水平發展的關鍵因素，其它的事情都能想辦法取巧，無論是浸潤式光刻，亦或是衍射光柵，它都是基於現有光源條件下的改良法。

而高壓汞燈的365nm光波波長就決定了，它不可能製作出100nm以下製程的CPU，具有非常嚴重的時代侷限性。

現在國際上最尖端的ArF光刻機所採用的DUV光源波長已經下降到了193奈米，從理論數值來計算，它最高可將解析度提升到65nm，也就是目前全球最先進光刻工藝的極限。

現在用i線光刻機，還用高壓汞燈這一套，不可能鬥得過他們。

“您說得有道理，不過也未必，也許華夏今後幾年就能跟上，把深紫外線照明系統給研究到位呢？”王向中半開玩笑道。

林堅聞言也是搖了搖頭，道：“深紫外線照明沒有這麼簡單。我看你們的資料，目前你們還在研究氣壓對成像系統的影響研究，不要怪我講話難聽，這種技術也就只能用於g線和i線光刻機上。”

“DUV深紫外線，也就是波長低於350奈米的電磁波，是用不到這項研究的，”他補充道：“尤其是VUV真空紫外（波長低於350奈米的電磁波）技術，只能在真空環境下使用，所以和氣壓毫無關係，這個你明白吧？”

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