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要做好高功率鐳射，就必須做好反射鏡片、渦輪風機、高壓電源、變壓器等一系列部件。

高功率必然帶來高發熱量，一個輸出功率四千瓦的鐳射器，製冷量差不多需要五萬瓦。

楊東昇這麼搞法自然代價不菲，今年公司的研發支出就已經達到了七十多億，下一年度的研發支出鐵定要破百億。

搞科研歷來都是昂貴的。

前世某電腦組裝廠看到科創板塊紅火，就想跑去圈錢,結果直接丟人現眼，搞了個科創板塊一日遊，讓全國人民再次見識了他們的本來面目。

對公司來說，好訊息是他們不用等到極紫外線光刻機做出來，才能盈利。

極紫外線的應用範圍很窄，但是大功率鐳射的應用範圍很廣。

高精度的鍍膜、拋光技術，用途也很廣。

而且為極紫外線光刻機研發的技術,很多都可以用到深紫外線光刻機上。

等離子拋光可以做到皮米級的精度,那麼先做到奈米極精度，用於拋光深紫外線光刻機所需要的鏡頭肯定是足夠了。

另外他們也不需要再走透鏡式鏡頭到反射式鏡頭的路線，在深紫外線光刻機上，直接就可以用反射式鏡頭。

畢竟透鏡要拋光上下兩個面，反射鏡只需要拋光一個反射面，還不用考慮透鏡材料的問題。

可以大幅降低研發和製造成本。

以研究極紫外線光刻機為目標，推進整個公司的發展，這就是楊東昇這套計劃的根本意義，有點類似於美國當年借搞星球大戰計劃，推動整個科研體系進步。

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