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一顧所長同意對重光公開全所員工檔案，並召開全體員工大會，這讓胡一亭感到滿意，於是接下來大家繼續討論晶圓廠的裝置和214所的技術儲備。顧所長身邊已經漸漸聚集了一批所裡的工程師們，足有十五、六人之多，都好奇地打量著胡一亭和康耀祥，認真地聽他們說什麼。

康耀祥毫不怯場，站在無塵車間的走廊裡，隔著牆玻璃指著廠房裡的光刻機道：“作為試驗線，1.5微米還是保守了。

現在成都光機所已經拿出了0.8微米分步重複投影光刻機，今年1月份以工藝流片成功率80%以上的好成績通過了國家驗收，目前正在北都微電子中心進行裝置的安裝除錯。

按照計劃，他們打算今年年底之前，大概11月12月的樣子，就可以開始進行國產裝置的‘0.8微米CMOS全套工藝’的工藝考核，預計半年之內可以見分曉。

到時候咱們國家就算是正式擁有了屬於自己的0.8微米制程全套生產裝置和製造工藝了！我看這次考核一定能透過！原因很簡單，目前0.8微米制程工藝已經在微電子所實現了高良品率的實驗透過，而且這段時間經過908華晶工程的檢驗，完全可以滿足高良品率的生產製造任務！

華晶廠目前以0.8微米制程工藝生產我們重光的CMP1J1晶片，良品率已經超過了70%，並且還把一微米制程的遊影霸王晶片成功移植到了0.8微米制程上，達到了60%以上的良品率。

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