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當北方的清晨亮起第一抹陽光，長春光機所地下實驗室裡，一場激動人心的實驗，也終於開始了。

鐳射發生器開始預熱，這是全套光刻機臺中最核心的部件之一，由中科光電院設計製造。

鐳射光源射出後，首先會進入光束矯正器，矯正器共有三組，調整光束入射方向，讓鐳射束儘量保持平行。

調整完畢的平行鐳射，會進入能量控制器。

顧名思義，能量控制器是調節鐳射功率的存在，控制最終照射到矽片上的能量大小。

像晶片這樣的高精密製造業，無論曝光不足或者過足，都會嚴重影響出片質量，所以能量必須收到嚴格的控制。

能量控制器之後，是光束形狀設定器，它可以設定光束形態，呈圓型，環型，散射型等等不同的形狀，而不同形態的鐳射，又有著不同的光學特性。

光束形狀設定器尾部，還有一組遮光器，在不需要曝光的時候，遮光器會把光束攔下來，防止光束照射到矽片上。

再然後是能量探測器，這個東西主要是檢測光束功率的，它無法單獨使用，而是將檢測訊號回饋給能量控制器，配合能量控制器進行功率調整。

調整完畢的鐳射束，會穿過掩模版，進入物鏡。

掩膜版也叫光罩，簡單來說呢，它就是一塊內部刻著線路設計圖的玻璃板，給矽片曝光用的，你想要什麼樣的半導體設計線路，就定製什麼樣的掩膜版。

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